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荷蘭SPARKNANO空間原子層沉積系統(tǒng)S-ALD系統(tǒng)產(chǎn)品特點與用途
點擊次數(shù)：176 更新時間：2025-06-12
 

荷蘭SPARKNANO空間原子層沉積系統(tǒng)S-ALD系統(tǒng)產(chǎn)品介紹

 

一、 品牌與產(chǎn)品概述

荷蘭SPARKNANO公司 (SparkNano B.V.)，一家專注于原子層沉積(ALD)技術的設備制造商。

核心產(chǎn)品：空間原子層沉積(S-ALD)系統(tǒng)。該技術區(qū)別于傳統(tǒng)時序ALD，采用空間分隔反應氣體和連續(xù)基板運動的方式實現(xiàn)薄膜沉積。產(chǎn)品定位：提供從研發(fā)、中試到大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的S-ALD設備解決方案，滿足不同基材和產(chǎn)量的需求。

 

二、 產(chǎn)品型號與技術參數(shù)

SPARKNANO提供以下三個主要產(chǎn)品系列，對應不同應用場景：

1、LabLine系列

? 定位：研發(fā)、工藝開發(fā)、原型制作及中試生產(chǎn)。

? 簡介：靈活的系統(tǒng)，用于探索S-ALD工藝在各種材料上的應用。

? 工作原理：基板在反應腔內(nèi)連續(xù)移動，依次通過物理隔離的不同前驅(qū)體和反應氣體區(qū)域，實現(xiàn)薄膜的逐原子層生長。過程無需反復抽真空，沉積連續(xù)。

技術參數(shù)：

? 適用基材：晶圓、玻璃、金屬箔、聚合物箔、多孔材料。

? 最大樣品區(qū)：420 mm x 300 mm。

? 前驅(qū)體通道：標準4路（可擴展）。

? 反應選項：H?O（標準），等離子體（O?, O?, H? 可選）。

? 溫度范圍：熱S-ALD 50–250°C；等離子體S-ALD 50–200°C。

? 裝載方式：手動（雙前室）。

2、Vellum系列

? 定位：大面積剛性或柔性平面基材（如晶圓、玻璃、金屬箔）的片對片(Sheet-to-Sheet)量產(chǎn)。

? 簡介：高產(chǎn)能系統(tǒng)，設計用于自動化大批量生產(chǎn)。

技術參數(shù)：

? 基板尺寸：0.5m x 0.5m 至 1.5m。

? 處理速度：可達20片/分鐘（視基板與工藝而定）。

? 溫度范圍：熱S-ALD 50–250°C；等離子體S-ALD 50–200°C。

3、Omega系列

? 定位：柔性聚合物箔或金屬箔的卷對卷(Roll-to-Roll)超高產(chǎn)量量產(chǎn)。

? 簡介：專為連續(xù)處理柔性長幅材料設計，追求高線速度。

技術參數(shù)：

? 適用基材：聚合物箔、金屬箔。

? 幅寬：300mm – 2000mm (可定制)。

? 線速度：可達60米/分鐘（視工藝而定）。

? 工藝兼容：熱S-ALD和等離子體S-ALD。

 

三、 核心特點

SPARKNANO S-ALD系統(tǒng)的特點包括：

? 沉積速度提升：空間連續(xù)沉積方式，相比傳統(tǒng)時序ALD，完成相同厚度薄膜所需時間通?？s短（例如LabLine沉積50nm Al?O?約10分鐘）。

? 基材適應性寬：系統(tǒng)設計可處理多種形態(tài)的材料，涵蓋剛性基底（硅片、玻璃）、柔性箔材（聚合物、金屬）以及具有孔隙的材料。

? 工藝靈活可選：支持熱模式及等離子體增強模式（PE-ALD），可使用多種前驅(qū)體和反應氣體（如H?O, O?, O?, H?等離子體），擴展了可沉積材料范圍。

? 研發(fā)到生產(chǎn)路徑清晰：LabLine的工藝開發(fā)成果可直接遷移至Vellum（片對片量產(chǎn)）或Omega（卷對卷量產(chǎn)）系統(tǒng)，支持技術產(chǎn)業(yè)化。

? 模塊化理念：設備設計考慮模塊化，便于根據(jù)特定應用需求進行配置調(diào)整或后續(xù)功能升級。

 

四、 應用領域

SPARKNANO S-ALD系統(tǒng)適用于多個技術領域，具體應用如：

? 能源存儲：用于鋰離子電池電極材料涂層、固態(tài)電池電解質(zhì)/電極界面層、電池隔膜涂層，提升電池性能和壽命。

? 光伏太陽能：用于晶硅太陽能電池表面鈍化層、薄膜太陽能電池的功能層（緩沖層、窗口層等）沉積。

? 平板顯示：用于OLED顯示器的薄膜封裝層(TFE)，阻隔水氧，延長器件壽命。

? 新興能源技術：用于電解水制氫（綠氫）設備中的催化劑涂層、膜電極制備。

? 半導體相關：用于先進封裝中的介質(zhì)層沉積、MEMS器件功能薄膜沉積。
 
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